个人股票配资历史新高！A股盘中，集体拉升！

　　炒股就看金麒麟分析师研报，权威个人股票配资，专业，及时，全面，助您挖掘潜力主题机会！

　　CPO概念股，涨势凶猛！

　　最近几个交易日，随着贸易紧张情绪的缓解，A股科技股持续上行，芯片、光刻机、CPO等方向领涨。今日（10月27日）盘中，上述板块再度拉升，CPO指数一度涨超4.70%，光刻机板块一度涨超5%。

　　截至中午收盘，万得CPO指数涨幅仍超过4%。其中，新易盛、生益科技、中际旭创、东田微、源杰科技、生益电子等相关概念股在盘中均创出历史新高。光刻机板块涨幅接近3%，万润股份涨停，晶瑞电材涨超15%。

　　从整体A股市场来看，沪指震荡走强，再创十年新高，逼近4000点大关。沪深两市半日成交额1.57万亿，半日放量超3300亿。截至午间收盘，沪指涨1.04%，深成指涨1.26%，创业板指涨1.54%。午后开盘后，A股三大指数继续保持强势。

　　CPO概念股集体大涨

　　继上周五大涨5%后，CPO指数今日再度拉升，盘中最高涨幅一度达到4.71%。个股方面，东田微一度触及20%涨停，仕佳光子一度涨超15%，生益电子一度涨超13%，新易盛一度涨超10%，生益科技涨近10%，景旺电子、华工科技、东山精密、天孚通信、德明利、工业富联等纷纷跟涨。

　　当天盘中，近10只CPO概念股的股价创出历史新高，包括新易盛、生益科技、中际旭创、东田微、源杰科技、生益电子、德明利、环旭电子等。

　　消息面上，10月24日，中共中央举行新闻发布会，介绍和解读党的二十届四中全会精神。会上，科技部党组书记、部长阴和俊表示，中国政府高度重视人工智能，持续营造良好的创新生态，推动人工智能加快发展。

　　阴和俊表示，下一步，将认真贯彻落实《中共中央关于制定国民经济和社会发展第十五个五年规划的建议》要求，持续加强“十五五”人工智能顶层设计和体系化部署。继续加强基础研究和关键核心技术攻关，聚力开发新的模型算法、高端算力芯片，不断夯实人工智能发展的技术根基。深入实施“人工智能+”行动，推动人工智能与科技创新、产业发展、消费提质、民生保障等深度融合。

　　华安证券近日发布的研报指出，四中全会强调全面增强科技自主创新能力，可重点把握科技新一轮成长产业景气的投资机会。本轮产业周期以AI算力基建为代表，具体可关注泛TMT、算力（CPO/PCB/液冷/光纤）等。开源证券也表示，随着“十五五”规划建议提出科技自主可控成为重点工作目标，国产算力板块有望成为市场主线。同时持续看好AI浪潮下的存储周期和消费电子的创新周期。

　　另外，全球算力高景气度延续。10月23日，Anthropic与谷歌正式宣布价值百亿美元的云服务合作协议，预计带来百万级谷歌定制TPU芯片，并在2026年带来预计1GW的AI算力。有分析称，这一事件凸显出全球AI算力需求正呈现指数级增长，开发和训练尖端AI系统的成本急剧飙升，也表明云服务提供商的自研芯片正成为英伟达之外不可忽视的力量。从全球AI算力产业链角度看，此次合作进一步强化了“多元算力供应”趋势。

　　开源证券认为，上述合作有望提升Claude模型性能的同时，强化Anthropic和谷歌的合作关系，也凸显TPU芯片的性价比和泛用性。海外各AI模型厂商加强与上下游合作，AI军备竞赛持续，有望持续带动算力产业链需求。

　　光刻机板块也大幅异动

　　光刻机概念股今日盘中也大幅拉升，板块指数涨幅一度超过5%。截至中午收盘，万得光刻机指数涨幅仍接近3%。个股方面，万润股份涨停，晶瑞电材涨超15%，锦华新材涨近10%，佳先股份、迦南科技涨超8%，南大光电、富创精密等涨超6%，江化微涨幅也接近6%。

　　消息面上，国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。标准的起草单位包括上海大学、张江国家实验室、上海华力集成电路制造有限公司、上海微电子装备（集团）股份有限公司。

　　另据科技日报报道，近日，北京大学彭海琳教授团队及其合作者，通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，分辨率优于5纳米。这一发现不仅揭示了光刻胶分子在溶液中的微观物理化学行为，更指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案，有效清除了12英寸晶圆图案表面的光刻胶残留，为提升光刻精度与良率开辟新路径。

　　彭海琳表示，光刻是芯片制造中关键的步骤之一，通俗理解，光刻就是给半导体晶圆（比如硅片）“印电路”，核心是用超精密“投影仪”把设计好的电路图案，缩小后印在硅片的特殊薄膜上，再通过冲洗定型。光刻是芯片制造的核心技术之一，更是微纳加工领域“皇冠上的明珠”。

　　显影液则在电路图案形成过程中发挥着重要作用。在光刻胶显影过程中，光刻胶的曝光区域会选择性地溶解在显影液的液膜中。液膜中光刻胶分子的吸附与缠结行为，是影响晶圆表面图案缺陷形成的关键因素，进而可直接影响芯片性能和良率。

　　有券商指出，光刻胶作为半导体、印制电路板、平板显示等行业的基础材料，其技术进步可以促进相关产业链的协同发展，上游材料供应商、设备制造商，中游光刻胶生产企业，以及下游光刻胶产品应用企业都能从中受益。

新浪声明：此消息系转载自新浪合作媒体，新浪网登载此文出于传递更多信息之目的，并不意味着赞同其观点或证实其描述。文章内容仅供参考，不构成投资建议。投资者据此操作，风险自担。